ကုန်ပစ္စည်းအကြောင်းအရာ
အလူမီနီယမ်ပရိုဖိုင်းများ၊ အလူမီနီယမ်ပရိုဖိုင်များ၏ မျက်နှာပြင်ကို ပွတ်ခြင်းသည် အလူမီနီယမ်ပရိုဖိုင်းလုပ်ဆောင်ခြင်းတွင် အရေးကြီးသော လုပ်ငန်းစဉ်တစ်ခုဖြစ်ပြီး အလူမီနီယမ်ပရိုဖိုင်းထုတ်ကုန်များ၏ တာရှည်ခံမှုနှင့် အလှတရားများကို မြှင့်တင်ပေးနိုင်သောကြောင့် အလူမီနီယံပရိုဖိုင်းထုတ်ကုန်များ၏ တန်ဖိုးနှင့် ဆွဲဆောင်မှုတို့ကို တိုးမြင့်စေပါသည်။
Chemical polishing နှင့် electrochemical polishing သည် အလူမီနီယမ် ထုတ်ကုန်များ၏ မျက်နှာပြင်မှ သေးငယ်သော အနာများနှင့် ခြစ်ရာများကို ဖယ်ရှားပေးနိုင်သော အဆင့်မြင့် အချောထည် နည်းလမ်းတစ်ခု ဖြစ်ပါသည်။နှစ်ခုစလုံးသည် ပွတ်တိုက်နေသောကြိုးများကို ဖယ်ရှားနိုင်သည်၊ အပူဒဏ်ကြောင့် ပုံပျက်နေသော အလွှာများနှင့် စက်ပိုင်းဆိုင်ရာ ပွတ်တိုက်သည့် ဖလင်အလွှာတွင် ဖြစ်ပေါ်နိုင်သည့် anodizing တို့ကိုလည်း ဖယ်ရှားနိုင်သည်။ဓာတု သို့မဟုတ် လျှပ်စစ်ဓာတုဗေဒပစ္စည်းများ ပွတ်တိုက်ပြီးနောက်၊ အလူမီနီယမ်အလုပ်အတုံးများ၏ ကြမ်းတမ်းသောမျက်နှာပြင်သည် အလူမီနီယမ်ထုတ်ကုန်များ၏ အလှဆင်အကျိုးသက်ရောက်မှု (ဥပမာ ရောင်ပြန်ဟပ်မှုဂုဏ်သတ္တိ၊ တောက်ပမှုစသည်) တို့ကို တိုးတက်ကောင်းမွန်စေသည့် မှန်တစ်ချပ်ကဲ့သို့ ချောမွေ့တောက်ပြောင်နေတတ်သည်။တောက်ပသောမျက်နှာပြင်များဖြင့် အလူမီနီယံထုတ်ကုန်များ၏ ဝယ်လိုအားကို ဖြည့်ဆည်းပေးရန်အတွက် မြင့်မားသောတန်ဖိုးရှိ စီးပွားဖြစ်ထုတ်ကုန်များကို ပေးစွမ်းနိုင်သည်။ထို့ကြောင့် ချောမွေ့သော၊ ညီညီညာညာနှင့် တောက်ပသော မျက်နှာပြင်၏ အထူးလိုအပ်ချက်များကို ရရှိရန် ဓာတုဗေဒင် သို့မဟုတ် လျှပ်စစ်ဓာတုဗေဒ ပွတ်ခြင်း ကုသမှု လိုအပ်ပါသည်။
Chemical polishing နှင့် electrochemical polishing သည် အလူမီနီယံ ပရိုဖိုင်များ၏ မျက်နှာပြင်ကို အလွန်တောက်ပအောင် စွမ်းဆောင်နိုင်သော်လည်း ပေါ်လစီအရ ဓာတုဗေဒင် (သို့မဟုတ် electrochemical polishing) သည် mechanical polishing နှင့် ကွဲပြားသည်-
Mechanical polishing ဆိုသည်မှာ အလူမီနီယံမျက်နှာပြင်ကို မြန်နှုန်းမြင့်ဖြတ်တောက်ခြင်းနှင့် ကြိတ်ခြင်းမှတဆင့် ပလပ်စတစ်ပုံသဏ္ဍာန်ပြုလုပ်ခြင်းဖြစ်ပြီး မျက်နှာပြင်၏ခုံးအစိတ်အပိုင်းများကို ကန့်လန့်ဖြတ်ဖြည့်ပေးခြင်းဖြင့် အလူမီနီယံပရိုဖိုင်၏ မျက်နှာပြင်ကြမ်းတမ်းမှုကို လျှော့ချပြီး ချောမွေ့စေသည်။သို့သော်လည်း စက်ပိုင်းဆိုင်ရာ ပွတ်တိုက်ခြင်းသည် သတ္တုမျက်နှာပြင် ပုံဆောင်ခဲဖြစ်ခြင်းကို ထိခိုက်စေနိုင်ပြီး ဒေသတွင်း အပူကြောင့် ပလပ်စတစ်ပုံပျက်ခြင်း အလွှာများနှင့် အသေးစားဖွဲ့စည်းပုံ ပြောင်းလဲမှုများကိုပင် ဖြစ်ပေါ်စေပါသည်။
Chemical polishing သည် အထူးအခြေအနေများအောက်တွင် ဓာတုချေးတက်ခြင်းတစ်မျိုးဖြစ်သည်။လုပ်ငန်းစဉ်သည် အလူမီနီယမ်ပရိုဖိုင်း၏ မျက်နှာပြင်၏ ခုံးအစိတ်အပိုင်းကို အဝိုက်ဧရိယာရှေ့တွင် ပျော်ဝင်စေပြီး နောက်ဆုံးတွင် မျက်နှာပြင်သည် ချောမွေ့တောက်ပစေရန် စီမံဆောင်ရွက်သည်။
electrochemical polishing ဟုခေါ်သော electropolishing လုပ်ငန်းစဉ်သည် ရွေးချယ်မှုပျော်ဝင်မှုကို ထိန်းချုပ်ခြင်းဖြင့် မျက်နှာပြင်များကို ချောမွေ့တောက်ပစေပြီး ဓာတုဗေဒင်ပွတ်ခြင်းနှင့် ဆင်တူသည်။electrochemical tip discharge ၏နိယာမအရ၊ အလူမီနီယမ်ပရိုဖိုင်ကို anode အဖြစ်ပြင်ဆင်ထားသော electrolyte တွင်နှစ်မြှုပ်ထားပြီး၊ ကောင်းသောလျှပ်ကူးနိုင်သောပစ္စည်းကို cathode ထဲသို့နှစ်မြှုပ်ထားသည်။
စက်မှုကုန်ထုတ်လုပ်ငန်းတွင် ဓာတုပလစ်တိုက်ခြင်း သို့မဟုတ် လျှပ်စစ်ဓာတုဗေဒပစ္စည်းများ ပွတ်တိုက်ခြင်း၏ အဓိကရည်ရွယ်ချက်မှာ ချောမွေ့တောက်ပသော မျက်နှာပြင်ရရှိရန် စက်ပိုင်းဆိုင်ရာ ပေါလစ်ဖြင့် အစားထိုးရန်ဖြစ်သည်။ဒုတိယမှာ အလူမီနီယမ်နှင့် အလူမီနီယမ် အစိတ်အပိုင်းများ၏ အလွန်မြင့်မားပြီး အံ့မခန်းရောင်ပြန်ဟပ်မှုရရှိရန် ဓာတုဗေဒင် သို့မဟုတ် လျှပ်စစ်ဓာတုဗေဒပစ္စည်းကို အသုံးပြုရန်ဖြစ်သည်။
